날짜 | 내용 |
---|---|
2014. 11 | 방호장치 안전인증서(GAS CABINET,VMB) |
2013. 09 | K-OHSMS,OHSAS 18001:2007 취득 |
2012. 05 | 벤처기업확인(기술보증기금, 유효기간:2014.05.20) |
2011. 04 | 삼성전자 협력사 등록 |
2010. 08 | 본점을 경기도 오산시 가장산업동로 14-11(가장동) 소재로 이전 |
2010. 06 | 기술혁신형 중소기업(INNO-BIZ)확인(중소기업청, 유효기간:2013.06.20) |
2009. 04 | 자본금을 909백만원으로 증자 및 전기공사업 등록 |
2006. 07 | 기업부설연구소 인정(한국산업기술진흥협회) |
2006. 05 | 강구조물 공사업 등록(오산06-21-0001) |
2005. 05 | 기계설비공사업 등록(오산2005-12-0001) |
2001. 01 | 가스시설 시공업 제1종 등록 |
2000. 05 | 반도체 제조용 기계 제조업을 목적으로 (주)한양세미텍 설립 |
구분 | 2015-12-31 | 2014-12-31 | 2013-12-31 |
---|---|---|---|
유동비율 | 138.8 | 176.8 | 231.2 |
매출액영업이익율 | 9.3 | 3.4 | -11.8 |
총자산회전율(회) | 1.5 | 1.3 | .7 |
부가가치율 | - | - | - |
총자산증가율 | 23.8 | 1.1 | -5.2 |
날짜 | 내용 |
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2014. 11 | 방호장치 안전인증서(GAS CABINET,VMB) |
2013. 09 | K-OHSMS,OHSAS 18001:2007 취득 |
2012. 05 | 벤처기업확인(기술보증기금, 유효기간:2014.05.20) |
2011. 04 | 삼성전자 협력사 등록 |
2010. 08 | 본점을 경기도 오산시 가장산업동로 14-11(가장동) 소재로 이전 |
2010. 06 | 기술혁신형 중소기업(INNO-BIZ)확인(중소기업청, 유효기간:2013.06.20) |
2009. 04 | 자본금을 909백만원으로 증자 및 전기공사업 등록 |
2006. 07 | 기업부설연구소 인정(한국산업기술진흥협회) |
2006. 05 | 강구조물 공사업 등록(오산06-21-0001) |
2005. 05 | 기계설비공사업 등록(오산2005-12-0001) |
2001. 01 | 가스시설 시공업 제1종 등록 |
2000. 05 | 반도체 제조용 기계 제조업을 목적으로 (주)한양세미텍 설립 |
구분 | 2015-12-31 | 2014-12-31 | 2013-12-31 |
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유동비율 | 138.8 | 176.8 | 231.2 |
매출액영업이익율 | 9.3 | 3.4 | -11.8 |
총자산회전율(회) | 1.5 | 1.3 | .7 |
부가가치율 | - | - | - |
총자산증가율 | 23.8 | 1.1 | -5.2 |