Name: (주)태진기술
Address: 대전 유성구 탑립동 694 고주파부품산업지원？V너 205호
Telephone: 042-933-9642

(주)태진기술

최근연혁
날짜	내용
2013. 01	본점을 대전시 서구 청사로 152, 801호 (둔산동, 이안빌딩) 소재로 이전
2007. 11	일본 오사카지사 설립
2007. 10	본점을 대전시 유성구 탑립동 694 고주파부품산업지원센터 205호 소재로 이전
2006. 12	제7회 반도체설계 공모전 동상 수상(특허청장)
2006. 09	중국 상해지사 설립
2002. 08	중국 심천지사 설립
2000. 04	반도체 제조업을 목적으로 대표이사 최태혁에 의해 (주)태진기술 설립

재무비율
구분	2014-12-31	2013-12-31	2012-12-31
유동비율	331	269	208.6
당좌비율	163.6	149.7	125.8
비유동자산비율	33.8	40.3	41.5
비유동장기적합률	24.8	28.8	33.4
부채비율	80.4	99	100.8
차입금의존도	28.4	34.8	27
자기자본비율	55.4	50.3	49.8
매출채권대매입채무비율	227.1	228.5	186.4
매출액영업이익율	1.3	1.5	7
매출액법인세차감전계속사업이익률	1.3	.5	7
매출액순이익율	.8	.9	7.8
총자본법인세차감전계속사업이익률	1.9	.8	10.7
총자본순이익율	1.1	1.4	12
총자산회전율(회)	1.4	1.4	1.5
자기자본회전율(회)	2.7	2.9	3.1
경영자산회전율(회)	1.7	1.7	1.8
매출채권회전율(회)	6.4	7.2	6.4
매입채무회전율(회)	14.6	14.7	13.6
부가가치율	-	-	-
설비투자효율	-	-	-
총자본투자효율	-	-	-
감가상각률	-	-	-
총자산증가율	-19.4	-9.9	12.7
매출액증가율	-15.2	-5.7	6.6
순이익증가율	-29	-88.6	67
유형자산증가율

최근연혁
날짜	내용
2013. 01	본점을 대전시 서구 청사로 152, 801호 (둔산동, 이안빌딩) 소재로 이전
2007. 11	일본 오사카지사 설립
2007. 10	본점을 대전시 유성구 탑립동 694 고주파부품산업지원센터 205호 소재로 이전
2006. 12	제7회 반도체설계 공모전 동상 수상(특허청장)
2006. 09	중국 상해지사 설립
2002. 08	중국 심천지사 설립
2000. 04	반도체 제조업을 목적으로 대표이사 최태혁에 의해 (주)태진기술 설립

재무비율
구분	2014-12-31	2013-12-31	2012-12-31
유동비율	331	269	208.6
당좌비율	163.6	149.7	125.8
비유동자산비율	33.8	40.3	41.5
비유동장기적합률	24.8	28.8	33.4
부채비율	80.4	99	100.8
차입금의존도	28.4	34.8	27
자기자본비율	55.4	50.3	49.8
매출채권대매입채무비율	227.1	228.5	186.4
매출액영업이익율	1.3	1.5	7
매출액법인세차감전계속사업이익률	1.3	.5	7
매출액순이익율	.8	.9	7.8
총자본법인세차감전계속사업이익률	1.9	.8	10.7
총자본순이익율	1.1	1.4	12
총자산회전율(회)	1.4	1.4	1.5
자기자본회전율(회)	2.7	2.9	3.1
경영자산회전율(회)	1.7	1.7	1.8
매출채권회전율(회)	6.4	7.2	6.4
매입채무회전율(회)	14.6	14.7	13.6
부가가치율	-	-	-
설비투자효율	-	-	-
총자본투자효율	-	-	-
감가상각률	-	-	-
총자산증가율	-19.4	-9.9	12.7
매출액증가율	-15.2	-5.7	6.6
순이익증가율	-29	-88.6	67
유형자산증가율